Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 от Annealsys, Москва
- Минимальный заказ - 1 ед.;
- Предложение добавлено 03.03.2017;
- Уникальный код - 16554165;
- Количество просмотров - 69;
Описание товара
Универсальная установка для процессов DLI-CVD, DLI-ALD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 -производства -Annealsys (Франция) -для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 4-ех дюймов и 8-ми дюймов соответственно. -
(DLI - Direct Liquid Injection)
Применение: -
- -DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD
- -Металлы -и сплавы, -оксиды, -нитриды,
- -Углеродные нанатрубки -и -нанопровода&hellip-
- Полупроводники: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...
- Диэлектрики с высоким -k: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)
- Ферроэлектрики: SBT, SBTN, PLZT, PZT,&hellip-
- -Сверхпроводники: YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, &hellip-
- Пьезоэлектрики: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, -Модифицированный титанат свинца с колоссальным магнитным сопротивлением
- Металлы: Pt, Cu,...
- Термические покрытия
- Буфферные слои
- Механические покрытия
- Оптика
Особенности
- Ручная загрузка
Установки -MC-100 -и -MC-200 - -установки с холодными стенками для проведения -DLI-CVD, MOCVD -процессов специально разработаны для удовлетворения требований заказчиков занимающихся разработками и исследованиями
MC-100 позволяют -проводить процесс гетороэпитаксии оксидов на пластине монокристаллического кремния (такие как YBCO/LAO, STO/MgO, MxOy/LAO,&hellip-) -с помощью -MOCVD -с использованием большого числа твердых, жидких металлоорганических прекурсоров с использованием технологии прямого впрыска жидкости -(Direct Liquid Injection.)
Системы -MC-100 и MC-200 модет быть снабжена разными аппаратами (системами) впрыска и вакуумным оборудованием в зависимости от применения.
CVD -процессс с пульсирующим давлением
- Высокая скорость нагрева -до -200°-C/сек для пластины в 4 дюймов
- Компактная напольная конфигурация для экономии места
- Высокая надежность и низкая стоимость владения
- Высокая воспроизводимость процесса
- Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
- Вакуумная версия (10-3 Торр) -
- Пирометр и термопара для контроля температуры
- Быстрый цифровой контроллер температуры -PID
- До 8-ми газовых линий и до 4-х инжекторов подачи прекурсоров
Скачать презентацию MC-100 в PDFСкачать брощюру MC-200 в PDF
Скачать презентацию MC-200 в PDF Максимальный размер образца
до 4 дюймов и до 8 дюймов в диаметре.
Температурный диапазонот комнатной -(RT) -до 850°-C +/- 1°-C -(в зависимости от версии)
Скорость нагревадо 200 -0С/сек
Газовая система и DLI система -Возможность смешивать процессные газы, -Контроллеры массового расхода газаДо 8 штук (MFC) -
До 4 инжекторов для подачи прекурсоров (DLI - Direct Liquid Injection)Вакуумот атм. (н.у.) до 10-3 Торр -Контроль температурыизмерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером -PID -гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температурУправлениесистема имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе -WindowsОпции -Перчаточный бокс для загрузки (опция)
Запросить предложение можно по -ссылке -или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru
Характеристики установки DLI-CVD и MOCVD модели МС-100 и МС-200 от Annealsys
- — Страна производитель: Франция
- — Бренд: Annealsys
Товары, похожие на Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 от Annealsys
Заявленная компанией МИНАТЕХ, ООО цена товара «Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-100 и MC-200 от Annealsys» может не быть окончательной ценой продажи. Для получения подробной информации о наличии и стоимости указанных товаров и услуг, пожалуйста, свяжитесь с представителями компании МИНАТЕХ, ООО по указанным телефону или адресу электронной почты.