Установка плазмохимического/реактивно-ионного травления Vision 322 PE/RIE, Москва

• диэлектриков: оксидов, нитридов, оксидов металлов


• металлов (Al, Ti, W и др.)


• материалов: кремний, германий, GaAs, GaN, InP, InGaAs


• полимеров: фоторезист, полиимиды, BCB, SU-8

Особенности:

• Идеально подходит для исследований, разработок, пилотного производства


• Возможность проводить изотропные и анизотропные процессы травления


• Групповая и одиночная обработка пластин размером до 12"


• Высокая равномерность (<±3%)


• Низкий уровень дефектности


• Надежность


• Минимальные интервалы технического обслуживания


• Компактный размер

-
Технические характеристики
Размер столика (электрода)
~12" (300мм)
Температура столика (электрода)
5-40⁰С
Материал столика (электрода)
Алюминий с графитовым покрытием
RF мощность верхнего электрода
600Вт, 13,56МГц, емкостной разряд
Вакуумный насос
250 л/с турбонасос Edwards (с керамическими подшипниками)
Минимальное давление
<1x10e-6 Торр
Контроль давления
Автоматический, 0-1 Торр
Газовые линии
4 линии (цифровые MFC)
Система контроля
PLC, DeviceNet (нет совместимости с SECS/GEM)
Операционная оболочка
PLC (на базе Windows XP/7)
Требования к электропитанию
25А, 200/208В, 60Гц, 3 фазы
16А, 380/400В, 50Гц, 3 фазы
Размеры
Высота 117,2см (214,7см с газораспределительным шкафом)
Глубина 93,4см
Ширина 73,0 см
Опции
Endpoint: OES/Laser;
Сухой форвакуумный насос;
Турбонасос с магнитным подвесом;
Дополнительные газовые линии (до 10 линий);
Увеличенный диапазон температуры электрода (от-25⁰С до +40⁰С);