Установка совмещения и экспонирования MDA-400M с ручным управлением, Москва

Установка -MDA-400M -производства -MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением и PLC/PC контролем -широко применяется для технологий изготовления -MEMS, -LED, -полупроводников и др. MDA-400M -- -это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства
Точность совмещения 1 мкм. -
Обработка пластин до 100 мм (4 дюймов)
Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
Ручное совмещение и автоматическое экспонирование.

Особенности

• Прецизионная точность совмещения 1 мкм
• Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6&rsquo-&rsquo- (150мм)
• Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
• Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
• Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
• Система для компенсации «-клина засветки»- на воздушных подшипниках
• Эргономичный дизайн для удобного использования
• Антивибрационный стол (опция)
• Низкая стоимость/высокое качество
• Обратное совмещение - IR BSA (опция)
• Управлене ручное

Запросить брошюру в PDF Мощность лампыУФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.Размер подложкикусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюймаТочность1 микронРазрешение1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом - (возможно 0,8 мкм с вакуумным контактом)Размер маскидо 5 х 5 дюймовУФ лампа350 Вт.Диапазон длин волн засветки350-450 нм, или другие по запросу.Размер однородного пучка4,25" х 4,25"Оптическое зрение (микроскоп)Микроскоп двойного поля -(80x -- -480x -увеличение, или 80-1000х по запросу), -CCD -камераОднородность пучка<- +/- 3%Интенсивность излучения при длине волны 365 нмМаксимальная -25 -мВт/см²Режим управленияс ПК -(PLC -контроль)Регулируемое время экспонирования0,1 to 999,9 -сек с шагом 100 мс.Совмещение подложекМодуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по -z ±- 10 мм или другой по запросу) и по углу &theta- (±- 5°-)ВыравниваниеКомпенсация ошибки клинаМетоды экспонированияМягкий -контакт, -жесткий контакт, -вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором -(регулируемое 1 мкм)СтолАнтивибрационный столОпцииИК опция обратного совмещения -(IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модуль -UV-LED -излучения (365 нм), модуль засветки для УФ и глубокого УФ