Установка STE RIE84, Санкт-Петербург
Описание товара
Установка STE RIE84является упрощённым вариантом установки для травления полупроводниковых или диэлектрических слоев в плазме емкостного разряда. STE RIE84 предназначена, прежде всего, для проведения эффективных лабораторных исследований и разработок. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм, либо 3 образца диаметром 2». Загрузка осуществляется вручную через бокс с инертной атмосферой. Обрабатываемые пластины укладываются на водоохлаждаемый RIE-электрод, что позволяет реализовать режим реактивного ионного травления. Для лучшего обеспечения теплопередачи между пластиной и поверхностью электрода предусмотрено гелиевое охлаждение.
Товары, похожие на Установка STE RIE84
Обращаем ваше внимание на то, что торговая площадка BizOrg.su носит исключительно информационный характер и ни при каких условиях не является публичной офертой.
Заявленная компанией Научное и технологическое оборудование, ЗАО цена товара «Установка STE RIE84» может не быть окончательной ценой продажи. Для получения подробной информации о наличии и стоимости указанных товаров и услуг, пожалуйста, свяжитесь с представителями компании Научное и технологическое оборудование, ЗАО по указанным телефону или адресу электронной почты.
Заявленная компанией Научное и технологическое оборудование, ЗАО цена товара «Установка STE RIE84» может не быть окончательной ценой продажи. Для получения подробной информации о наличии и стоимости указанных товаров и услуг, пожалуйста, свяжитесь с представителями компании Научное и технологическое оборудование, ЗАО по указанным телефону или адресу электронной почты.